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隔膜电容真空计 RBM350:性能高应用的理想之选

发布时间:2025-03-11 10:09:00        作者:厦门太星机电

在现代工业与科研领域不断追求高精度测量的浪潮中,隔膜式电容真空计 RBM350 凭借性能与广泛适用性,迅速崭露头角,成为众多性能高应用场景的装备。

隔膜电容真空计RBM350技术规范



RBM350 精度等级达 0.25 级,测量范围覆盖 133000 (Pa) 至 0.00133 (Pa) 的宽广区间,且在不同量程读数误差极低:≥133Pa 时误差仅 0.2%,≤133Pa 时误差为 0.5%,确保测量数据可靠。其电源接通后能快速稳定,暴露在大气压力下也可迅速恢复,显著减少等待时间,极大提升工作效率。长期信号稳定性出色,零漂移仅 0.005% F.S./℃,全尺度漂移为 0.04% F.S./℃,内置温度补偿功能有效降低温度对测量结果的影响。传感器设计充分考虑防护,可抵御污染,延长使用寿命、降低维护成本。操作方面,一键式零调节功能简单便捷,基于全数字键的校准方法方便用户灵活调整参数。供电范围为 + 14VDC 至 30VDC,适应多样电源环境;采用耐腐蚀陶瓷传感器,增强设备在复杂环境中的耐久性。

一家半导体制造企业在芯片生产时,曾因原有真空测量设备精度欠佳,在光刻、蚀刻等关键工艺中难以提升产品产率。引入 RBM350 后,其高精度特性助力实时监测生产过程中的真空度。晶圆光刻时,该设备快速稳定与快速恢复性能保障真空环境稳定监测,及时反馈真空变化,避免光刻胶异常曝光;在复杂化学气相沉积(CVD)环境中,耐腐蚀陶瓷传感器确保设备长期稳定运行,企业芯片产量大幅提高,生产效率显著提升,成本有效降低。

在科研领域,物理、化学、材料科学等实验中,RBM350 用于测量实验装置内部真空度,为材料制备与性能测试等提供可靠数据支持,保障实验环境纯度与稳定性。工业生产中,半导体制造的晶片生长、光刻、蚀刻、薄膜沉积等环节,RBM350 均发挥关键监测作用;真空涂层工艺里,它确保涂层质量与均匀性;真空热处理过程中,能控制真空度,满足不同材料与产品需求。医学领域,真空泵、呼吸机等设备借助 RBM350 测量和监测内部压力变化,保障设备正常运行与患者安全,如在呼吸机中实时监测气道压力。航空航天领域,航天器制造与测试时,它模拟空间环境,测量记录真空度变化,为航天器设计与改进提供数据支撑。

对于常见问题,RBM350 采用基于全数字密钥的校准方法,操作简便;温度补偿功能使其测量精度受温度影响小;特殊设计可防止传感器污染;暴露于大气压力后能快速恢复测量;在 + 14VDC 至 30VDC 电源电压范围内性能稳定;输出电压与真空压力呈线性关系,便于直观判断压力、提升工作效率与精度;在设备中使用需确保安装牢固、电气连接正确、防电磁干扰并定期校准维护;可依据实际真空度要求选择测量范围;其小巧轻便的尺寸(约为 60×60×120mm,重量≤300g),便于安装在各类设备中。

随着各行业对高精度测量需求的持续增长,隔膜电容真空计 RBM350 有望在更多领域展现价值,推动产业升级与科研进步。

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